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半导体共晶真空回流焊焊

HSM-1012真空共晶炉

1、此设备采用进口平台研发生产,真对半导体功率器件,CILP.TO,MOS等框架内功率器件研发的一款真空焊接回流焊。
、此设备采用工控嵌入式控制系统,仅稳定可靠而且温度控制更加精确
3、设备支持关键焊接参数的配方功能、支持SECS/GEM数据交换。
4、设备可以根据不同的产品自动可视化调节真空泵的抽气速度和设置分段抽真空,防止焊接元件偏移和产生锡珠。
5、专利密封圈水冷结构,不仅寿命更长,使用成本更低,而且减少了密封不良造成的昂贵的产品损坏
6、最大真空度可以达到0.1KP,;VoidSinale<1%,Total<2%
7、设备品配备独电离立松香回收处理系统,大幅减少松香残留。
8、设备才用自动巡检系统,可提前检测设备运行状况,预判设备故障,提前排除设备故障。
9、此设备完美替换ASM等国内外普通共晶回流焊。

    设备技术参数

     

    序号

    项目名称

    参数内容

    1

    设备尺寸(mm

    L2800*W1450*H1818

    2

    机器重量

    APPROX:1500KG

    3

    顶部加热区数量

    3

    4

    顶部加热方式

    热辐射

    5

    底部加热

    10

    6

    底部加热方式

    接触

    7

    冷却区数量

    2

    8

    真空区数量

    1

    9

    加热板长度

    340mm

    10

    加热板宽度

    130mm

    11

    产品厚度

    0.2-5mm

    12

    生产效率

    ≤120PCS/H

    13

    最高温度

    420℃

    14

    最低含氧量

    50ppm

    15

    加热板温差

    ≤±3℃

    16

    电源要求

    3P 380V 50/60Hz

    17

    总功率

    35kw

    18

    消耗功率

    ≤8kw

    19

    压缩气体压力

    ≥5kg/cm²

    20

    保护气体压力

    2.5kg/cm²

    21

    冷却水流量

    10-25L/min

    22

    氮气消耗量

    APPROX:150-200L/min

    23

    空洞率

    APPROX:1%-2%

     


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